國內(nèi)雖然已經(jīng)完成了光刻機(jī)的生產(chǎn)，但在它的性能與技術(shù)上還落后于西方發(fā)達(dá)國家，還需要不斷的提高提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)是它未來發(fā)展的重點(diǎn)，這種機(jī)器將圖形從掩膜上復(fù)制到硅片是的主要參數(shù)決定了它的性能。現(xiàn)在市場(chǎng)上的光刻機(jī)三大性能參數(shù)是光刻分辨率和套刻精度以及產(chǎn)率，但在未來這些參數(shù)已經(jīng)不能滿足市場(chǎng)的需要，要對(duì)它的光刻技術(shù)步入更小的節(jié)點(diǎn)，會(huì)提高它的精確度，它的產(chǎn)率也需要進(jìn)一步提高，只有這樣才能提高集成電路制造廠商的經(jīng)濟(jì)效益。

　　光刻機(jī)生產(chǎn)廠家要做到未雨綢繆，在生產(chǎn)線有關(guān)和街道前提下，還要對(duì)下一代光合技術(shù)進(jìn)行研究，現(xiàn)在大規(guī)模的集成電路生產(chǎn)主流，光合技術(shù)仍然是光系列光刻技術(shù)單隨著它的高速發(fā)展季末時(shí)光刻技術(shù)的出現(xiàn)，會(huì)使光學(xué)光刻技術(shù)延伸到45微米甚至更小的節(jié)點(diǎn)以內(nèi)，根據(jù)科學(xué)人員的預(yù)測(cè)，下一代光刻技術(shù)的主要候選者，應(yīng)該是機(jī)子外光刻技術(shù)和納米壓印技術(shù)，以及無掩膜的光刻技術(shù)。

　　現(xiàn)在那些性能比較先進(jìn)的光刻機(jī)已經(jīng)使用了紫外光刻技術(shù)，這種技術(shù)在世界范圍內(nèi)也備受關(guān)注，它是有可能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)化要求的一種技術(shù)，它使用波長為13.5的紫外光，能完成對(duì)很多電子元件的生產(chǎn)，而且所有材料對(duì)這個(gè)波段的光都有很強(qiáng)的吸收能力，但現(xiàn)在這種技術(shù)的研究還面臨著一些難題，低缺陷密度掩模的制備，高輸出功率、長壽命紫外光源的研發(fā)，反射式投影光學(xué)系統(tǒng)中污染的有效控制等問題都沒有得到有效的解決，想讓它實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)還需要等待一段時(shí)間。

　　國內(nèi)的光刻機(jī)雖然起步比較晚，但專業(yè)人才很多，一直在努力研發(fā)，載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司是國內(nèi)出產(chǎn)光刻機(jī)的重要廠家，技術(shù)水平處于同行業(yè)的前列，有自己的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，他們出產(chǎn)的光刻機(jī)獲得了客戶的認(rèn)可，對(duì)紫外光刻技術(shù)有了深了的研究，等這種技術(shù)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)以后，光刻機(jī)的新潮流，會(huì)帶動(dòng)整個(gè)行業(yè)有大的發(fā)展。光刻機(jī)未來發(fā)展可期，是值得人們努力研究和開發(fā)的一個(gè)行業(yè)，有著美好的未來與明天，是以后幾十年發(fā)展的高科技重心，它的應(yīng)用與推廣能為社會(huì)創(chuàng)造更多的價(jià)值與財(cái)富，也會(huì)能科學(xué)技術(shù)的發(fā)展注入新的力量。