光刻機，又稱曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等。，是制造芯片的核心設備。光刻機使用類似于照片印刷的技術，通過曝光將掩模上的精細圖案印刷到硅片上。

　　光刻機根據操作簡單性一般分為三種，手動、半自動和全自動

　　a手動:是指對準的調整方式，是通過手動調節(jié)旋鈕來改變其x軸、y軸和thita角，完成對準，對準精度可想而知較低；

　　b半自動:是指對準可以通過電軸根據CCD進行定位和調諧；

　　c.自動:指從承印物上傳下載，曝光時間和周期由程序控制，自動光刻機主要滿足工廠對加工能力的需求。

　　光刻機的主要性能指標有:支撐襯底的尺寸范圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。

　　分辨率是描述光刻可以達到的細線精度的一種方式。光刻的分辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝的限制。

　　對準精度是多層曝光期間層間圖案的定位精度。

　　曝光方式分為接觸接近、投射和直寫。

　　曝光光源的波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源包括汞燈、準分子激光器等。

　　高精度對準系統(tǒng)的制造需要近乎完美的精密機械工藝，這是國產光刻機無法比擬的技術難點之一。許多美國和德國品牌的口罩對準器都有特殊的專利機械工藝設計。比如光刻機采用了全氣動軸承設計的專利技術，有效避免了軸承機械摩擦帶來的工藝誤差。

　　對準系統(tǒng)的另一個技術問題是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡的視野，很多光刻機都采用了LED照明。

　　有兩套具有聚焦功能的對準系統(tǒng)。主要是顯微鏡主體、目鏡和物鏡通過雙目和雙視場對準(光刻機通常提供不同倍率的目鏡和物鏡，供用戶組合使用)。

　　CCD對準系統(tǒng)的功能是在監(jiān)視器上放大和成像掩模和樣品的對準標記。

　　顧名思義，工件臺是放置工件的平臺，光刻工藝中重要的工件是掩模和襯底。

　　工件臺是光刻機的關鍵部件，由掩模樣品整體運動臺(XY)、掩模樣品相對運動臺(XY)、旋轉臺、樣品調平機構、樣品聚焦機構、晶圓承載臺、掩模夾具和繪圖掩模臺組成。